#surface cleaning

Сбой очистки истончил Co silicide и поднял сопротивление контактных цепочек

Под контактами двух технологических узлов Microchip нашли истончённый и местами неровный Co silicide. Анализ связал дефект с деградацией pre-Co sputter clean; для одного из узлов этот механизм остаётся интерпретацией, совместимой с наблюдениями. →